近場(chǎng)光學(xué)顯微鏡的原理與構(gòu)造
一般光學(xué)顯微鏡于遠(yuǎn)場(chǎng)觀測(cè)時(shí),因受到光波的繞射限制,其解析度僅有數(shù)百納米左右
。但若在近場(chǎng)觀測(cè)時(shí),可避免繞射及干涉的產(chǎn)生,能克服繞射限制,將解析度提升至
數(shù)十納米左右。
近場(chǎng)光學(xué)顯微鏡的結(jié)構(gòu)中,以末端背有數(shù)十納米口徑的錐狀光纖為探針。將探針和被
測(cè)物的距離精準(zhǔn)控制在近場(chǎng)觀測(cè)范圍內(nèi),利用可精密定位與掃描探測(cè)的壓電陶瓷,并
配合原子力顯微鏡所提供的高度回饋控制系統(tǒng),進(jìn)行三維空間近場(chǎng)掃描。再由光纖探
針接收或發(fā)射光學(xué)訊號(hào),以獲得三維近場(chǎng)光學(xué)影像。
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