顯微工具微電子工業(yè)未來(lái)用什么方法來(lái)降低工業(yè)成本
微電子工業(yè)獲得了迅速發(fā)展,今后的重點(diǎn)將轉(zhuǎn)到器件的成本上,這可從改進(jìn)工藝著手,例如,對(duì)硅集成電路來(lái)說(shuō),今后要向較小的單個(gè)元件和較大的芯片方向發(fā)展,用這種方法來(lái)降低整個(gè)電路的成本和提高電路的速度。硅片的制造成本主要取決于元件的大小,但是,元件尺寸太小,其誤差值幾乎要到無(wú)窮小才行。在目前的設(shè)計(jì)中,幾何誤差通常是1微米。雖然,在特別嚴(yán)格的地方,有時(shí)需要更小的誤差值。因此,能夠滿足電路和成本兩方面要求的新設(shè)計(jì)還需要在今后作出更多的努力。 隨著元件越來(lái)越小或裝填越來(lái)越密,芯片含有缺陷區(qū)的可能性也越大。現(xiàn)以直徑為1.5英寸的典型硅片為例,假定該硅片上有100個(gè)缺陷點(diǎn)(如果它們落在工作面積內(nèi),器件就會(huì)失效);再假定每邊0.06英寸正方形芯片的工作面積為50%,那么,在這一硅片上大約就有400個(gè)芯片,并且按照100個(gè)缺陷點(diǎn)計(jì)算,其中將有50個(gè)失效芯片,即失效率為12.5%。如果把芯片尺寸加大到為0.100英寸的正方形,那么,這塊硅片上就只能有145個(gè)芯片,若仍按可能有50個(gè)失效芯片,則所代表的失效率就為34%。后,如能采用新工藝,使工作面積提高到80%,那么可以估計(jì)這種情況下將會(huì)有80個(gè)失效電路,因此,失效率將上升為55%。
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