本文標題："開發(fā)的線上檢測誤差的影像量測顯微鏡"

發(fā)布者：yiyi ------ 分類: 站內動態(tài) ------ 人瀏覽過 -----時間：2013-9-20 21:59:30

開發(fā)的線上檢測誤差的影像量測顯微鏡

一方面了解機臺精度，一方面分析本技術所能達到的精度，具體的目標說明如下：

兩次電極涂布對位誤差補償技術
以往硅晶太陽能芯片在單次電極涂布時，涂布區(qū)域相對于芯片邊
界在位置及角度上皆允許有較大誤差的產生，介于 200~300 μm，但并
不影響芯片的轉換效率。然而，當制程改變?yōu)閮纱瓮坎紩r，

若仍使用單次涂布的檢測與補償技術，將只能修正芯片邊界的對位誤差，但無
法解決涂布區(qū)域相對于芯片邊界的誤差及兩次涂布電極的錯位問
題。

因此，將使用自行開發(fā)的線上檢測與誤差補償技術，實
際對兩次涂布所產生的對位誤差進行補償。透過影像采集設備并配合
誤差補償軟件，實際對涂布機臺進行補償值的修正，希望將兩次涂布
之對位誤差降至 50 μm 內，目標為在現有機臺上做小改變，并滿足
量產性
 

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