本文標題："保證膠膜厚薄為什么要對粘度和使用規(guī)程實行嚴格控制"

發(fā)布者：YIYI ------ 分類: 站內動態(tài) ------ 人瀏覽過 -----時間：2015-9-23 17:58:33

保證膠膜厚薄為什么要對粘度和使用規(guī)程實行嚴格控制

    光刻要使已進行摻雜的硅區(qū)域暴露出來可以采用“光刻”方
法在硅氧化物上刻蝕圖形。為此，先把對特定的紫外光帶敏感的
乳膠均勻轉壓在硅片上，然后通過刻有所需圖形的精密掩模進行
曝光。這道工序通常在專門的潔凈室里進行，室內采用不影響乳
膠性質的黃色照明。每個掩模在一個X-Y陳列里刻有好幾百個
相同的圖形，每個圖形形成一個電路。要去除曝光區(qū)的長化物可
利用稀作的氛氟酸進行腐蝕，這種酸能夠溶解氧化硅，但不能腐蝕
受到乳膠保護的部分。
    硅片上的乳膠必須均勻一致，厚度一定。乳膠膜薄對制造很
小的圖形是有利的，但是，膜太薄可能出現(xiàn)針孔，使氧化物產(chǎn)生不
應有的小孔。膠膜厚度還決定了需要曝光的時間，厚度變化過大
會引起一部分硅片曝光不當。要保證膠膜厚薄一致，必須對其粘
度和使用規(guī)程實行嚴格控制，而且使用前乳膠必須經(jīng)過過濾，除去
其中的固體粒子。
 

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